Presentations -
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「安定同位体３０Ｓｉを用いた外因性Ｓｉ中におけるＳｉ自己拡散」
中林 幸雄、Ｈｉｒｍａｎ、瀬川 徹、斎藤 数正、松本 智、室田 淳一、和田 一実、阿部 孝夫、
[Domestic presentation] 応用物理学会,
2001.03,Oral presentation (general)
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「ボロン再構成表面/ＳｉにおけるＧｅ量子ドットの形成」
永井 秀明、森 裕俊、柳川 知明、松本 智
[Domestic presentation] 応用物理学会,
2001.03,Oral presentation (general)
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「Ｓｉ（１００）上へのＢＰのエピタキシャル薄膜の選択成長」
花本 英俊、西村 鈴香、寺嶋 一高、松本智
[Domestic presentation] 応用物理学会,
2001.03,Oral presentation (general)
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「ＣＺ－Ｓｉ中におけるＰの過渡増速拡散、損失に及ぼす窒化膜偏析の影響」
斎藤 数正、藤原 尚樹、中林 幸雄、Ｈｉｒｍａｎ．豊永 一成、松本 智、佐藤 芳之
[Domestic presentation] 応用物理学会,
2001.03,Oral presentation (general)
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「ＧＳ－ＭＢＥの選択成長を用いたｃ－Ｓｉ/ＳｉＯ２低次元構造の作成」
瀬川 徹、松本 智
[Domestic presentation] 電子情報通信学会,
2001.02,Oral presentation (general)
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“Epitaxial Growth of Pure ３０Ｓｉ Layers on a Natural Si(100) Substrate Using Enriched ３０ＳｉH4”,
Y. Nakabayashi, T. Segawa, O. Hirman and S. Matsumoto, J. Murota, K. Wada and T. Abe
[International presentation] First Int’ Workshop on New Group IV Semiconductors ((Jan. 21-23, 2001, Sendai, JAPAN).) ,
2001.01,Oral presentation (general)
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“Future Silicon Substrates”
S. Nishimura, K. Terashima and S. Matsumoto
[International presentation] , Proc. of the 3rd Int’ Symp. on Advanced Science and Technology of Silicon Materialsx ((Nov.20-24, 2000 Hawaii)) ,
2000.11,Oral presentation (general)
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“Self-Diffusion in Extrinsic Silicon Using Enriched 30Si”,
Y. Nakabayashi, T. Segawa, O. Hirman and S. Matsumoto, J. Murota, K. Wada and T. Abe:
[International presentation] Proc. of the 3rd Int’ Symp.on Advanced Science and Technology of Silicon Materials ((Nov. 20-24, 2000, Hawaii)) ,
2000.11,Oral presentation (general)
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「濃縮３０ＳｉＨ４を用いたＧＳ－ＭＢＥによる３０Ｓｉの成長」
中林 幸雄、瀬川 徹、Ｈｉｒｍａｎ、斎藤 数正、松本 智
[Domestic presentation] 応用物理学会 ,
2000.09,Oral presentation (general)
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「濃縮３０ＳｉＨ４を用いたＧＳ－ＭＢＥによる３０Ｓｉの成長」
中林 幸雄、瀬川 徹、Ｈｉｒｍａｎ、斎藤 数正、松本 智
[Domestic presentation] 応用物理学会 ,
2000.09 -
“Fabrication of boron delta-doped structures in Si by solid-phase epitaxy”,
T. Ishikawa, H. Nagai, K. Ishii and S. Matsumoto,
[International presentation] 25th International Conference on the Physics of Semiconductors ((Sep. 17-22, 2000, Osaka, Japan)) ,
2000.09,Oral presentation (general)
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「Ｓｉ 基板へのｃ－ＧａＮエピタキシャル膜の成長」
西村 鈴香、寺嶋 一高、松本 智
[Domestic presentation] 応用物理学会 ,
2000.09,Oral presentation (general)
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「Ｓｉ 融液の粘性?Ｂ添加の影響」
西村 鈴香、寺嶋 一高、松本 智
[Domestic presentation] 応用物理学会 ,
2000.09,Oral presentation (general)
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“Initial Growth of Titanium Germanosilicide on Ge/Si(111)”, , 2000)
T. Yanagawa, H. Nagai, H. Mori and S. Matsumoto
[International presentation] Tenth International Conference on Solid Films and Surfaces ((Princeton University, July 9-13) ,
2000.07,Oral presentation (general)